PVD(Physical Vapor Deposition物理气相沉积)是在真空条件下,通过电弧使大面积固态靶材高度蒸发离化,在可控的方式下与通入的反应气体结合,在产品表面形成1-10um的超硬薄膜,是表面处理领域的一项顶尖技术,该种膜层在真空密封的腔体内形成,所以没有任何环境污染问题,是绿色环保的技术;PVD工艺温度一般在500°以内,所以相比PVD涂层,有着更广泛的应用,可以在大部分基材上成膜。
阿诺涂层采用目前最优化的磁场结构,这种最新的磁场结构,在大电流的情况下也能够精确控制电弧的运动,最大限度的减少液滴,涂层质量更好,涂层表面更光滑。
TiAlN 表面粗糙度
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